二、技术参数特征
1、装置系统主要包括主体反应腔、水冷系统、温控系统、样品台装置等多个部件及相关配件;
2、主体真空反应腔室内部按照高真空要求进行处理,加热炉及隔热层均适用于高真空环境使用,加热炉采用环场加热方式对样品中心处进行加热,保证样品处的温度均匀;
3、常用温度控制范围:RT-500℃,温度控制精度:±1℃;
4、原位装置通光孔径为φ22mm,样品直径为φ15.5mm;
5、配备水冷系统,保证主体反应腔室的温度不高于60℃,保证实验的安全;
6、样品台采用陶瓷加工而成,热电偶采用k型热电偶,置于样品正下方;
三、工作原理图详见下图
