二、技术参数
1. 该原位池适用于在室温,低压,静态或流动条件下 进行的常规气体和蒸气的原位光谱分析;
2. 该装置采用环境场加热方式对气体进行均匀加热, 保证腔内的温度均匀;
3. 样品腔采用316L不锈钢加工而成,其结构符合光 束的几何形状,且具备一定的化学惰性和耐腐蚀性;
4. 样品池的光程为10CM;
5. 温度控制范围:RT-200℃;温度控制精度:±1℃ ,采用程序控制;
6. 反应腔体内部可通气体和低真空处理,气压调节范 围:10-2mbar-3bar ;
7. 配备单独进出气口控制阀,并形成一个有效回路;
8. 反应池标配氟化钙光学片作为光窗,也可根据客户 需求选配其他类型红外窗口。