二、技术参数特征 

1、本设备系统主要由主体腔室（反应腔）、冷却循环系统、气路系统和温度控 制系统（带程序控制）四个主体部分组成。 

2、装置能够实现器件或其他材料在真空或气氛条件下的加热反应，其中样品尺 寸大小可为φ5mm 的圆片或粉末； 

3、 装置采用环境场加热方式对样品中心处进行加热，保证样品处的温度均匀；

4、 加热腔体的温度调节范围：RT-1000℃，控制精度±1℃，采用程序控温；

5、 主体腔室的透射窗口尺寸为 φ3mm，在装置顶部位置，窗口材质选用蓝宝石； 

6、主体腔室配备了气路接头，通过外接真空泵组可实现装置的真空处理（机械 泵的真空处理），并保证整个气体腔体密封性良好，不漏气，也可通过气路 系统外接（1MPa 以内）或低真空环境； 7、 主体腔室外壳设有水冷层，配备冷却水循环机保证腔体外表面温度低于 60℃；

8、原位测试装置设置了≥14mm 的工作距离，满足一般拉曼光谱仪表征所需的 工作距离要求。

三、装置实物图