二、结构组成
本设备由主体反应腔、液氮制冷系统、加热系统、温控系统、样 品台等多个部件及相关配件。
三、主要特点
1) 高低温 XRD 反应腔主要包括主体反应腔、液氮制冷系统、加热系 统、、温控系统、样品台等多个部件及相关配件;
2) 该装置采用液氮制冷片对样品进行制冷,采用热传导的方式对样 品进行加热,保证样品处的温度均匀;
3) 温度控制范围:-100-100℃;控制精度:±1℃,采用程序控制;
4) 样品台采用铜加工而成,温度探测器为 Pt100,置于样品正下方;
5) 装置图片为选配版的铍球窗口,标准版采用高分子窗口(PEEK半球)
四、工作原理
